自动烘干设备 多晶硅生产厂家

硅原子位于元素周期表*IV主族，它的原子序数为Z=14，核外有14个电子。电子在原子核外，按能级由低硅原子到高，由里到外，层层环绕，这称为电子的壳层结构。硅原子的核外电子层有2个电子，*二层有8个电子，达到稳定态。外层有4个电子即为价电子，它对硅原子的导电性等方面起着主导作用。
铸造长晶工艺，是通过控制铸锭炉热场中的加热器温度、隔热材料的散热量，来实现液态硅从底部开始，逐渐向**部的定向凝固，凝固长晶速度为0.8~1.2cm/h。同时在定向凝固过程中，可以实现金属元素在硅材料中的分凝效应，实现大多数金属元素的提纯，并形成了均匀的多晶硅晶粒组织。

在光学，微电子等领域有着广泛的应用前景，是目前**上广泛关注的功能材料。

多晶硅是一种重要的溅射靶材材料，使用磁控溅射方法制备SiO2等薄膜层，可以使基体材料具备较好的光学、介电及抗蚀性能，被广泛应用到触摸屏、光学等行业中。本公司采用美国GT-Solar公司的多晶硅铸锭炉的铸造长晶工艺可制备出的硅靶材材料，具有纯度高、导电性优异、晶粒均匀等特点，硅材料尺寸可达1m×1m。

通过原材料的筛选、长晶工艺的控制及退火工艺，实现多晶硅靶材原料的高纯度、稳定电阻率、均匀晶粒，并配套完善的检验检测手段以及加工工艺的优化，将多晶硅溅射靶材材料的品质稳定性控制到。
易于控制
与常规加热方法比较，微波加热的控制只要操纵功率控制旋纽，即可瞬间达到升降、开停的目的。因为在加热时只对物体本身加热，炉体、炉腔内空气几乎不加热，因此热惯性小，应用计算机控制，特别适宜于加热过程和加热工艺的规范和自动化控制。

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