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在化学镀PCB药液溶液中加入一些加速催化剂，能提高化学镀镍的沉积速率。加速剂的使用机理可以认为是还原剂次磷酸根中氧原子被外来的酸根取代形成配位化合物，导致分子中H和P原子之间键合变弱，使氢在被催化表面上更容易移动和吸附。也可以说促进剂能起活化次磷酸根离子的作用。常用的加速剂有丙二酸、丁二酸、氨基乙酸、丙酸、氟化钠等。在化学镀镍溶液中，有时镀件表面上连续产生的氢气泡会使底层产生条纹或麻点。加入一些表面活性剂有助于工件表面气体的逸出，安徽电路板显影药水，降低镀层的孔隙率，安徽电路板显影药水，安徽电路板显影药水。常用的表面活性剂有十二烷基硫酸盐、十二烷基磺酸盐和正辛基硫酸钠等。中国产业洞察网专注于PCB药液行业的研究已有五年之久。安徽电路板显影药水

在PCB药液中，除了一小部分氢是由NiSO4和H2PO3反应产生以外，大部分氢是由于两极通电时发生电极反应引起的水解而产生，在阳极反应中，伴随着大量氢的产生，阴极上的氢与金属Ni—P合金同时析出，形成（Ni—P）H，附着在沉积层中，由于阴极表面形成超数量的原子氢，一部分脱附生成H2，而来不及脱附的就留在镀层内，留在镀层内的一部分氢扩散到基体金属中，而另一部分氢在基体金属和镀层的缺陷处聚集形成氢气团，该气团有很高的压力，在压力作用下，缺陷处导致了裂纹，在应力作用下，形成断裂源，从而导致氢脆断裂。氢不只渗透到基体金属中，而且也渗透到镀层中，据报道，电镀镍要在400℃×18h或230℃×48h的热处理之后才能基本上除去镀层中的氢，所以电镀镍除氢是很困难的，而化学镀镍不需要除氢。太仓碱性清洁剂PCB/FPC药液是在PCB/FPC板厂生产制程中，需要用到的各种化学药液、药剂。

需要留意的是，化学镍金的金缸容积越大越好，不但其Au浓度变化小而有利于金厚控制，而且可以延长换缸周期。为了节省成本，金缸之后需加装回收水洗，同时也可减轻对环境的污染。回收缸之后，一般都是逆流水洗。沉镍金自动线：排缸，从生产线的角度来看，排缸数量越少越好，一方面可以减少不必要的天车运行距离和时间，另一方面，还可以节省投资成本以及占地空间。关于排缸的顺序，一般情况应从产能﹑滴水污染﹑天车运行及操作方便等几个因素来考虑。镍缸由于保养费时，所以应当排放一备用缸。

PCB化学药水技术是在金属的催化作用下，通过可控制的氧化还原反应产生金属的沉积过程。与电镀相比，化学镀技术具有镀层均匀、孔隙小、不需直流电源设备、能在非导体上沉积和具有某些特殊性能等特点。另外，由于化学镀技术废液排放少，对环境污染小以及成本较低，在许多领域已逐步取代电镀，成为一种环保型的表面处理工艺。目前，化学镀技术已在电子、阀门制造、机械、石油化工、汽车、航空航天等工业中得到普遍的应用。化学浸镀（简称化学镀）技术的原理是：化学镀是一种不需要通电，依据氧化还原反应原理，利用强还原剂在含有金属离子的溶液中，将金属离子还原成金属而沉积在各种材料表面形成致密镀层的方法。化学镀常用溶液：化学镀银、镀镍、镀铜、镀钴、镀镍磷液、镀镍磷硼液等。电镀镍金是PCB表面处理工艺的鼻祖，自从PCB出现它就出现，慢慢演化出其它工艺。

化学镀镍PCB药液溶液中的主盐就是镍盐，一般采用氯化镍或硫酸镍，有时也采用氨基磺酸镍、醋酸镍等无机盐。早期酸性镀镍液中多采用氯化镍，但氯化镍会增加镀层的应力，现大多采用硫酸镍。目前已有介绍采用次亚磷酸镍作为镍和次亚磷酸根的来源，一个优点是避免了硫酸根离子的存在，同时在补加镍盐时，能使碱金属离子的累积量达到较小值。但存在的问题是次亚磷酸镍的溶解度有限，饱和时只为35g/L。次亚磷酸镍的制备也是一个问题，价格较高。如果次亚磷酸镍的制备方法成熟以及溶解度问题能够解决的话，这种镍盐将会有很好的前景。PCB的功能为提供完成第1层级构装的组件与其它必须的电子电路零件接合的基地。安徽电路板显影药水

真空镀膜主要包含：真空蒸镀、溅射镀和离子镀几种典范。安徽电路板显影药水

随着PH值的降低，镍磷含金的P含量升高，化学镍金沉积中，磷含量一般在7~11%之间变化。镍磷合金的抗蚀性能优于电镀镍，其硬度也比电镀镍高。在化学镍金的酸性镀液中，当PH6时，镀液很容易产生Ni(OH)2沉淀。所以一般情况，生产中PH值控制在4.5~5.2之间。由于镍沉积过程产生氢离子(每个镍原子沉积的同时释放4个氢离子)，所以生产过程中PH的变化是很快的，必须不断添补碱性的药液来维持PH值的平衡。通常情况下，氨水和氢氧化钠都可以用于生产维持PH值的控制，两者在自动补药的方面差别不大，但在手动补药时就应特别关注。安徽电路板显影药水

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