厚街纳米陶瓷涂层厂家

丰富的基体材料选择 镀膜工艺可以实现在多种材料上沉积(不锈钢/铜/锌合金/钛/铁等)。实现工件轻量化的同时可以有良好的机械性能。 PVD离子镀是近30年发展为迅猛的表面处理技术之一，通过在产品上镀制1-100微米的膜层，提升产品的耐磨、耐腐蚀、耐高温氧化、润滑等性能，在航空航天、装备领域，PVD离子镀技术的应用非常广泛；目前航空航天工业越来越注重减少碳排放量、降低维护成本及总营运成本。高新材料是减轻重量、延长使用寿命及减少燃油消耗的关键因素，而航空航天方面的涂层应用，使得常规和可替代轻型材料的使用成为可能，从而增加产品性能并降低其总成本；与许多常规表面涂层不同，PVD技术制造为环保友好涂层工艺,对环境没有任何污染。
包装：任何工件在交我司做涂层的运输途中，均需要有包装，且包装必须能保证工件的安全。 对于锋利刃具，如铣刀、丝攻、铰刀等，建议采用每只产品之间都有区隔的包装方式。 对于较重的大型件，如果采用快递或货运，一定要有足够强度的包装箱，以保证运输途中不被损伤。 PVD涂层与其他表面处理的比较 CVD简介（Chemical Vapor Deposition——化学气相沉积）（1）将各种化学反应物质：如四氯化钛（TiCl4）和甲烷（CH4）等含碳气体（或其它碳氮气体）蒸气等通入反应炉体内，在高温（900~1200℃）状态下，TiCl4中的钛（Ti）和碳氢化合物中的碳（C）在模具表面进行化学反应，从而生成一层金属化合物涂层碳化钛（TiC）。利用不同的反应物，可得到不同的薄膜，如TiN、Ti（CN）、CrC等等。 CVD的优点： ①镀膜与基材的附着性优良；

不论回火温度如何，我司在镀膜过程中只能选择比热处理回火温度较低的温度处理，才能保证工件硬度不下降。 一般的回火温度有：a． 高温：500℃以上b． 中温：350℃左右c． 低温：200℃左右※注：实际上，热处理厂可以根据不同的材料、不同的要求设计出不同温度参数的回火工艺，并不单纯是上述几个数值。 我司镀膜的温度 ①根据不同的要求，我司的镀膜温度可以作三种选择：a． 高温：500℃b． 中温：320℃c． 低温：180℃

由于陶瓷粉料的颗粒大小决定了陶瓷材料的微观结构和宏观性能。如果粉料的颗粒堆积均匀，烧成收缩一致且晶粒均匀长大，那么颗粒越小产生的缺陷越小，所制备的材料的强度就相应越高，这就可能出现一些大颗粒材料所不具备的特性能。

不同的镀膜温度镀的薄膜的特性会有些许差异，用TiN（氮化钛）举例说明：a． 颜色：高温镀的就会较金黄、光亮；低温镀的就会相对淡一些。 耐磨性：低温镀的相对于高温镀的耐磨性要差一些。 如何选择回火温度 ①无论何种材料，选择不同的回火温度所得到的硬度值一般是不一样的。 ②如果在硬度、韧性等基本要求都可以满足的情况下，请尽量选择较高的回火温度，以便于我们镀膜处理可以选择较高的温度，以达到较佳的效果。
镀层性能不同于基体金属，具有新的特征。根据镀层的功能分为防护性镀层，装饰性镀层及其它功能性镀层。 电镀时，镀层金属或其他不溶性材料做阳，待镀的工件做阴，镀层金属的阳离子在待镀工件表面被还原形成镀层。能增强金属的抗腐蚀性（镀层金属多采用耐腐蚀的金属）、增加硬度、防止磨耗、提高导电性、光滑性、耐热性和表面美观。