氮化钛(TiN)具有典型的NaCl型结构,属面心立方点阵,晶格常数a=0.4241nm,其中钛原子位于面心立方的角**。TiN是非化学计量化合物,其稳定的组成范围为TiN0.37-TiN1.16,氮的含量可以在一定的范围内变化而不引起TiN结构的变化
TiN有着诱人的金、熔点高、硬度大、化学稳定性好、与金属的润湿小的结构材料、并具有较高的导电性和**导性,可应用于高温结构材料和**导材料
60年代末,人们以TiCl4为原料,用化学气相沉积在硬质合金基体上制备出氮化钛膜,其反应温度在900-1100摄氏度
此外,氮化钛膜还可用作耐腐蚀镀层、微电子器件的扩散障碍层、光学反射层等
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