武汉磁控溅射五氧化二钽靶材厂家 Ta2O5靶材

制备五氧化二钽薄膜并研究其性能,有很强的实用**,已引起人们的密切关注。

Ta2O5薄膜具有较高的折射率和热稳定性、低吸收、无定形微结构和耐化学腐蚀等优点，广泛应用于制备多种光学元件的减反膜、高反膜、分光膜和干涉滤光膜

离子束溅射Ta2O5薄膜的研究主要集中在离子束、烘烤温度和工作气体流量比等参数的优化以及热处理对薄膜性能的影响上，并获得了离子束溅射制备Ta2O5薄膜的折射率、消光系数、应力、化学计量比、微结构和光学带隙等特性。

中国航天科工飞航技术研究院的刘华松等研究人员采取正交实验法系统地研究了离子束溅射制备的Ta2O5薄膜光学带隙，基于Cody-Lorentz介电常数物理模型，通过光谱反演计算获得薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度，后得到了Ta2O5薄膜禁带宽度和Urbach带尾宽度的调整方法

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