箱式气氛炉整个炉体采用双层内胆式结构,中间有气隙隔离,适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理。该炉配有通讯接口和软件,可以直接通过电脑控制炉子的各个参数,并能从电脑上观察到炉子上PV和SV温度值和仪表的运行情况,炉子的实际升温曲线电脑会实时绘出,并能把每个时刻的温度数据保存起来,随时可以调出。应用于电子元器件、新型材料及粉体材料的真空气氛处理,材料在惰性气氛环境下进行烧结。箱式气氛炉控制系统本电炉为冰箱式一体结构,控制系统安放在炉体下方,美观大方。仪表采用上海国龙温控表、温度控制采用PID自动控制、自动升温调节。
气氛箱式炉应用于适合各类大专院校实验室、工矿企业化验室,供化学分析、物理测定,以及金属、陶瓷的烧结和熔解、小型钢件等加热、焙烧、烘干、热处理用。
一、产品名称:箱式气氛保护实验炉。
二、用途:用于材料的气氛(氮气)烧结实验。
三、气氛箱式炉技术指标:
1.额定温度:1350℃。
2.常用温度: 1300℃。
3.炉膛尺寸:400×300×300 mm(L×W×H)。
4.有效工作尺寸:300×260×260 mm(L×W×H)。
5.加热方式:左右加热。(暗火加热)
6.温度仪表:可编程序控制(40段程序)。
7.控制方式:可控硅移相调压。
8.炉温稳定度:±1℃(以仪表显示为准)。
9.均匀性:在有效工作尺寸内±5℃。
10.炉门密封:水冷却套、硅橡胶密封。
11.气氛控制:气体流量计+减压阀
12.功率:12kw
高温气烧结炉氛产品用途:
该高温气氛炉以电阻丝,硅碳棒,硅钼棒为加热元件,采用双层不锈钢壳体结构和宇电30段程序控温系统,移相触发、可控硅控制,炉膛采用进口氧化铝材料,双层炉壳间配有风冷系统。炉体采用整体密封,炉门采用高温硅胶密封,气体经过流量计后由炉罐进入,并有多处进气口,可以通氢气、氮气等气体,并能抽真空。
本设备主要为大专院校、工矿企业等实验和批量生产提供惰性气体等条件,具有安全可靠、操作简单、控温精度高、保温效果好、温度范围大、炉膛温度均匀性高等特点。综合性能指标较高,处于国内ling先水平。根据不同的使用气氛及使用温度,使用不同的加热元件,型号齐全,对需在惰性气体或还原性气体环境下烧结的材料,本设备是一个非常好的选择,同时也可满足于不同工艺实验而制造。
技术参数
一、烧结性能
1、炉膛容积:200*150*150mm
2、温度稳定性:±1℃
3、***高温度:1700℃
4、冲温值:≤1-3℃
5、升温速度:可以设定,一般60分钟内即可升到1400℃
6、炉膛材料:采用多晶复合纤维材料,具有真空成型,高温不掉粉的特征。外层采用陶瓷纤维棉,保温效果好,外壳不烫手。
7、整机真空度:1.33Pa
8、电源电压:380V
9、功率:0----36KW
10、加热元件:HRE
11、控制方式:程控、模糊PID调节、可控硅输出,PID参数自整定功能,手动/自动无干扰切换功能,**温报警功能,可编程序30段以上
13、重量轻,升温快,人性化设计
14、控制特点:控制系统模块化结构,设备关键部件**命设计,工艺简单可靠、稳定性好、精度高
15、配备真空机组(包括旋片式真空泵、罗茨真空泵、扩散泵、增压水泵、复合真空计等整套器件)
高温真空气氛炉 箱式气氛炉
1、采用特种设计技术,具有操作安全、方便、真空度好,,密封性好,真空保持时间长。
2、该气氛炉可充入高压气体,气氛压力极限值0.1MPa,采用*特的密封技术,可长时间保压,安全性能好,操作方便。
3、采用双层壳体结构和40段程序控温系统,移相触发、可控硅控制。
4、炉膛采用1800型氧化铝多晶体纤维材料,双层炉壳间配有风冷系统,能快速对温控系统降温。
5、气氛炉采用外壳整体密封、盖板密封采用硅胶泥、炉门采用硅胶垫、并通有水冷系统。
6、气体经过流量计后由后膛进出,有多处洗炉膛进气口、口处有燃烧嘴。
7、可以通氩气、氢气、氧气、氮气、一氧化碳、氨分解气等气体。
8、该炉具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点,是高校、科研院机构、工矿企业做气氛保护烧结、气氛还原用的理想产品。
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