用激光拉曼谱和原子力显微镜等现代分析手段研究了磁控溅射石墨靶制备的薄膜的结构和特性。
适用设备: 应用于各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。
原料成分分析:
通过 ICP设备检测分析,杂质元素含量,确保纯度达标;通过XRD检测粉末成分,是否成相等 情况。
为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧,有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物,这也有助于用户可以连续以功率密度进行溅射。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。