适用设备: 应用于各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。
金属材料溅射靶材是目前应用广的靶材。本公司提供的金属靶材是通过简单熔炼成形、磁悬浮熔炼、热等静压成型、冷等静压成型等不同工艺制备而成。产品纯度好,密度高,晶粒均匀细致,使用寿命长。
石墨靶材自身具有耐高温、自润滑、耐腐蚀、导电性良好等特点,用石墨做靶材,在选材上市重要的环节,根据行业的不同选用不同材质的石墨材料,然后就要考虑石墨靶材加工中的技术问题,靶材材质的要求很严格,对加工技术的要求同样是一丝不苟的。石墨靶材的精度和误差都是重要的因素。
原料成分分析:
通过 ICP设备检测分析,杂质元素含量,确保纯度达标;通过XRD检测粉末成分,是否成相等 情况。
世高 主营靶材— **薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于**材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。