品名:铌靶 铌板靶,纯度:≥99.95%,密度:≥8.6g/cm3,熔点:2468℃,尺寸范围:根据客户需求定制。
铌靶材是重要的薄膜技术用材料,铌靶材终制作纯度可**99.95%。
应用领域:用于化工,,眼镜,电力,电镀,电子,航空航天,,石油等行业。
铌靶材作为阴极溅射靶材所形成的氧化膜质度均匀,不与空气中其他物质发生化学反应,保护效果持久。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。