新疆急需多段控温管式炉

VRSF真空电阻炉
窗体顶端
VRSF真空电阻炉 
型号  VRSF1400-422  VRSF1400-644 
用途  本设备是一款在真空条件下烧结样品的理想真空炉，也可预抽真空通保护气烧结，性能优于传统箱式气氛炉和箱式高温炉，外观美观，使用方便，占地小，经济实用。 
参数  整机功率  11 Kw  33 Kw 
 电源电压  380 V  380 V 
 加热区（深*宽*高） 400*200*200  600*400*400 
 外形尺寸  宽1370*深800*高1600  宽2100*深1300*高2000 
 设备重量  450 Kg  1500 Kg 
温度  加热功率  6 Kw  25 Kw 
 极限温度  1400 ℃ 
 使用温度  ≤1300 ℃ 
 升温速率  ≤30℃/min（上限） 
  300℃以内：≤3-8℃/min，300℃以上：≤8-12℃/min（建议） 
 测温传感器  S型热电偶 
 加热元件  1400型硅碳棒 
 保温材料  1600型氧化铝多晶纤维板雕刻而成，收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能 
 控温仪表  厦门宇电 AI系列仪表，模糊PID控制和自整定调节功能，30段可编程控制，控温精度±1℃ 
真空  真空机组功率  5 Kw  8 Kw 
 极限真空度  6.67*10-4 Pa 1.33*10-3 Pa
 扩散泵  KT200  KT300 
 机械泵  2X-30  2X-70 
 真空计  ZDF-5227 测量范围 1.0*105~1.0*10-5 Pa
 真空挡板阀  手动 GI-200  手动 GI-300 
 冷水机（选配）  1P  2P 
电气  液晶触摸屏  7英寸 MCGS  10英寸 MCGS 
 主要电气配件  施耐德 Schneider 
气氛  可通氮气、氩气等惰性保护气体 
安 全  超温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护 
资料  使用说明书1份、保修证书1份 
服务  免费送货(不含卸货)；免费上门安装调试培训；免费技术支持 
质保  12个月，易损件除外

电加热导热油炉和控制柜
产品特点
电加热导热油炉又称导热油电加热器，是一种“低压高温”型的节能供热设备。
1、能在较低的工作压力下（＜0.5MPa＝获得较高的工作温度（≤340℃），供热温度在 300℃时，运行压力仅为水的饱和蒸汽压的七十分之一。
2、热效率高（＞95%）。
3、可以进行稳定均匀的加热，并且能够达到的温度调控（控温 精度可在±2℃范围内）。
4、具有完备的控制系统和安全监测装置。
5、供热系统传热介质是有机热载体——导热油，该介质无味、无毒、 无环境污染、对操作工人健康无影响、对设备无腐蚀、使用寿命长。
6、油加热器可以就近水平安装在热用户（用热设备或用热环境）附近，不用打地基。
7、一般情况下，3-6 个月可以回收投资。
产品适用工作环境海拔不超过1000m；环境温度在 5-40℃范围内；环境相对湿度不大于 90%；周围没有导电尘埃、爆炸性气体以及能严重破坏金属和绝缘的腐蚀性的气体；无明显的震动。
如对产品有防爆等要求，或在其它条件下使用，用户在订货时与本厂具体协商。
附图1 系统供热循环系统示例图
附图2 导热油升温、脱水、降温曲线图

升温速率  ≤30℃/min（上限） 
 300℃以内：≤3-8℃/min，300℃以上：≤8-12℃/min（建议） 
降温速率  800℃以上≤10℃/min 
测温传感器  S型热电偶0.45mm国标，背面正中间 
加热元件  1400型硅碳棒 
炉 膛  1600型氧化铝多晶纤维板，收缩率小，导热系数低，保温效果好，耐用节能 
控温仪表  AI-518P  AI-518P  7英寸触摸屏  7英寸触摸屏 
 模糊PID控制和自整定调节功能 
 30段可编程控制，控温精度±1℃ 
承压说明  正压 0.02MPa，负压 -0.04MPa 
真空压力表  日本进口 SMC数显 -0.1至0.1MPa 
气体通路  标配一路 
浮子流量计  量程 3-30L/min 
选配机械泵  VP-3  VP-4  VP-4  
选配水冷机  CW-3000 
安 全防护  超温报警、断偶提示、过流保护、漏电保护 
升级服务  控温仪表升级为欧陆仪表，控温精度可提升至±0.1℃ 
 若需通入多路气体，请与业务人员沟通。 
随机资料  使用说明书1份、保修证书1份 
免费服务  免费送货(不含卸货)；免费技术支持 
质 保 期  12个月，易损件除外（如加热元件、密封圈等）

PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统 
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。 
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。 
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。 
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。 
系统选型 
项 目  推荐选型 
管式加热炉体  
石英反应腔室  根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等规格可选。 
真空系统  根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1（极限真空0.1Pa），GZK10-3（极限真空0.001Pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001Pa）供选择。 
质子流量供气系统  根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供选择。 
射频等离子源  根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射频电源供选择。 
常见PECVD系统组合  1. 1200度60滑轨式微型管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，300W射频电源 
 MXG1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300 
 2. 1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 
 3. 1200度60双温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 
 4. 1200度60三温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 
 5. 1200度60微型预热炉，1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500

陕西鑫昌实验仪器设备有限公司专注于销售低温系列，高温系列，高精度系列，超声波系列，光催化系列，光解水制氢系列等实验仪器。
主营业务产品：
低温恒温槽、温冰箱、冷冻干燥机、雪花制冰机、水浴恒温摇床、低温冷却液循环泵、无菌均质器、光化学反应仪、光解水制氢系统、超声波清洗机、超声波细胞粉碎机、高/低速离心机、紫外分析仪、培养箱干燥箱系列产品等。