电子束卷绕真空镀膜技术在上世纪80年代时主要用于优良录像带和数字录音带的磁性材料镀膜。由于电子束镀膜技术高度的工艺灵活性与可靠性,采用电子束技术几乎任何材料都可以高速蒸发(比溅射约高100倍),宁波卷绕镀膜机改造,在各种卷绕镀膜中,电子束卷绕真空镀膜具有较高的镀膜速度。除了典型的镀铝外,还可镀各种高熔点和高蒸发温度的材料,包括Cr、CO、Ni、Ta、W、Au、Ag、Ti、合金NiCr、SiO2、Al2O3、ZrO2、MgO、TiO2,宁波卷绕镀膜机改造,宁波卷绕镀膜机改造、ZnS等。对于反应蒸发(如Al+O2 → Al2O3),电子束技术提供了能够保证均匀的蒸发速率。根据开发镀膜工艺,利用我司卷对卷镀膜设备进行了样品制备。宁波卷绕镀膜机改造
目前我国多弧离子镀膜机企业在优良产品系列尚无法与国外产品竞争,在国际上有名度不高。国内多弧离子镀膜机的生产厂家,主要考虑的是国内的中、低端市场,采用设备的性能和可靠性的低价策略来赢得市场,生产经营也缺乏对设备研制的能力和将技术研发付诸于实施的中长期规划。未来五年,国际厂商不断进入,国内多弧离子镀膜机行业的整合趋势势必加剧,行业竞争愈发激烈,企业生存要受到来自多方面的的挑战。材料是现代高新技术和产业的基础与先导,是高新技术取得突破的前提条件。真空离子镀膜设备工作时往往温度较高,甚至可以达到350到500摄氏度,要求设备制造材料有耐高温和较强度特性。宁波卷绕镀膜机改造卷绕镀膜机主泵抽速范围向高压方向延伸一个数量级,非常适宜此类蒸发的镀膜过程。
目前国内卷绕式镀膜机蒸发源多采用坩埚蒸发,其材质有氮化硼、石墨、钼等。氮化硼由于电学及热学性能好,使用寿命长,因而较为普遍地应用于卷绕镀膜机中。每个坩埚的加热功率为6kW—8kW,加热电压为10V—12V。坩埚数量由基材幅宽来确定。辐宽愈宽坩埚数量愈多。幅宽500mm时4只坩埚,800mm时7只坩埚,1300mm时12只坩埚。坩埚分布是不均匀的,中间部分间距大些,在基材边缘处间距小,有的较外侧坩埚与基材幅宽边缘重合。磁控溅射卷绕镀膜是采用磁控溅射(直流、中频、射频)的方法把各种金属、合金、化合物、陶瓷等材料沉积到柔性基材上,进行单层或多层镀膜。
卷绕镀膜设备中薄膜平整度在线控制装置包括平整度调节辊(以下简称“香蕉辊”,可以看成是香蕉那种形状)及其控制系统。该装置是装在卷绕镀膜设备工艺室镀膜鼓前面。卷绕镀膜设备主要由放卷室、工艺室、收卷室组成,放卷室包含放卷装置、传动辊;工艺室包含镀膜鼓、磁控溅射阴极系统、传动辊、平整度调节辊;收卷室包含收卷装置、传动辊。原膜经过平整度调节辊后再经过镀膜鼓和磁控溅射阴极系统,这样就保证镀膜时原膜是经过平整度调节辊调整后再进行镀膜的,因此保证了镀膜时的良品率;原膜在离开镀膜鼓时是经过平整度调节辊后再到收卷装置,这样就保证了收卷整齐、平整。单室结构必须配置较大的排气系统才能保障蒸镀时的工作压力。
卷绕式真空镀膜机在结构上除了有一般镀膜机所有的结构外,必须有一个为了实现连续镀膜而设置的卷绕机构。由于被镀基体是纸或塑料,放气量较大,因此,在真空室的结构上又有单室和多室之分,卷绕机构设计中应考虑的几个问题: ①提高卷绕速度的问题。卷绕速度即是带状基材运动的线速度,它是卷绕机构的一个主要技术指栎。国内早期镀膜机卷绕速度只有10m/min,现在也只有80m/min~120m/min,在国外日本的EW系列产品中,其卷绕速度已达到300m/min,德国L.H公司生产的镀膜机已达到600m/min,可见随着镀膜技术的发展,卷绕速度有待提高。 ②带状基材的线速恒定问题。这一问题也很重要,因为只有卷绕机构保证带状基材的线速恒定,才能使基材上镀层厚度均匀。这一点对制备带状基材的功能性膜(如电容器膜)尤为重要。对于不同原理的镀膜,影响均匀性的因素也不尽相同。湖州卷绕镀膜机
卷绕镀膜机操作方便缺点是不适用于难熔金属和耐高温的介质材料。宁波卷绕镀膜机改造
由于溅射原子能量比蒸发原子能量高1~2个数量级,高能量的溅射原子沉积在基体时转换的能量多,甚至可发生部分注入现象,同时溅射成膜过程中,基体始终在等离子区中被清洗和启用,因此溅射镀膜与塑料表面的附着力要比蒸发镀膜好,膜层致密、均匀,如配合适当的工件转动,可在复杂表面上获得较均匀的镀层离子镀膜是蒸发工艺与溅射技术的结合,它是在镀膜的同时采用荷能离子轰击工件表面和膜层,使得镀膜层和基体结合力好,不易脱落。由于金属原子的能量低于蒸镀时的能量,即使是耐热性较差的塑料,在其表面也可生成稳定性良好的金属薄膜。宁波卷绕镀膜机改造
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