合肥金属实验用掩膜板 不锈钢镀膜mask 个性定制

北华诺恒宇光能科技有限公司，生产定制各种：点矩阵掩模版,密集孔圆点矩阵mask,密集孔圆点矩阵掩模板,密集孔圆点矩阵掩膜板,密集孔指状梳状微间距掩膜版,密集孔指状梳状微间距掩模版,密集孔指状梳状微间距mask,密集孔指状梳状微间距掩模板,密集孔指状梳状微间距掩膜板,密集孔梳形掩膜版,密集孔梳形掩模版,密集孔梳形mask,密集孔梳形掩模板,密集孔梳形掩膜板,密集孔蒸镀掩膜版,密集孔蒸镀掩模版,密集孔蒸镀mask,密集孔蒸镀掩模板,密集孔蒸镀掩膜板,密集孔溅射叉指掩膜版,密集孔溅射叉指掩模版,密集孔溅射叉指mask,密集孔溅射叉指掩模板,密集孔溅射叉指掩膜板,密集孔叉指电极掩膜版,密集孔叉指电极掩模版,密集孔叉指电极mask,密集孔叉指电极掩模板,密集孔叉指电极掩膜板,密集孔镀膜掩膜版,密集孔镀膜掩模版,密集孔镀膜mask,密集孔镀膜掩模板,密集孔镀膜掩膜板,密集孔实验用掩膜版,密集孔实验用掩模版,密集孔实验用mask,密集孔实验用掩模板,密集孔实验用掩膜板,
掩膜板定制，需要您提供图纸的同时，如果能提供大概用月用量或每批次的用量，相对来说，评估的价格更准确，也更合理。我们激光精密切割加工能力:可以使用自动激光精密切割设备，大批量生产，每天生产高达500平方米，针对小批量多样化的产品，也可以半自动化的方式投产，节省相关作业成本，是大限度为客户节省成本是我们的终目标，实现双赢!

掩膜板 产品功能加工特点
掩膜板特定产品材料材质:SUS304不锈钢，SUS316不锈钢，铜，及厚度 (公制):0.1,0.15,0.18,0.2,0.25,0.3，0.4.等
此款产品用途:掩膜板主要用于学校、科研所实验。
此款产品特点:掩膜板孔线条均均，剌，无缺口，不会出现大小孔的现像，针对激光精密切割产品，我们有的技术攻关团队，可以很好的帮助客户解决相应问题。

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是微纳加工技术常用的光刻工艺所使用的图形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜图形结构，再通过曝光过程将图形信息转移到产品基片上。
待加工的掩膜版由玻璃/石英基片、铬层和光刻胶层构成。其图形结构可通过制版工艺加工获得，常用加工设备为直写式光刻设备，如激光直写光刻机、电子束光刻机等。
掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。

华诺普锐斯公司是一家集从事金属精密加工、生产及销售制造商！公司专注于生产精密五金、IT产品配件、打印机配件、汽车配件、电器配件及工艺品产品的加工，公司产品取得了客户的一致认可, 如:联想、华为、中兴、BYD、富士康、美泰、东芝、TCL、格力、美的、飞利浦等大客户的认可。
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光学掩模板在薄膜、塑料或玻璃基体材料上制作各种功能图形并定位，以便用于光致抗蚀剂涂层选择性曝光的一种结构。掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成电路）、FPD（Flat Panel Display，平板显示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷电路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微机电系统）等。
华诺激光 掩膜板个性定制加工事业部，将竭诚为您服务。

华诺激光隶属于北京华诺恒宇光能科技有限公司，是一家依托国际激光技术，致力于激光精密精细加工研发和代工的高科技企业。公司拥有超过1000平米的万级洁净实验室和生产车间，一支经验丰富的技术开发和管理团队，和超过30台包括紫外激光器，超快激光器，光纤激器，二氧化碳激光器等进口激光源，以及配套的加工平台，公司还拥有包括3D显微镜，激光干涉仪，红外热成像仪，二次元等检测和分析工具。 
    华诺激光专注于微米级的激光精密切割、钻孔、蚀刻、刻线、划片、材料去除、构造、雕刻和材料的打标，主要应用于LED芯片制造，触摸屏，LCD，消费类电子，半导体，MEMS，照明，等行业，以及科研、航天航空、军事等领域，涉及包括各种金属及合金、半导体、陶瓷、各种透明材质、薄膜和聚合物等各种材料，公司已经做过1000多个基于以上材料的各种激光微加工试验和方案。
  华诺激光业务范畴包括前期的方案可行性研究和新制程开发服务、中期小规模试产和论证、后期的规模化量产业务等服务。