宁波磁控溅射五氧化二钽靶材

氧化钽化合物有多种价态 :如一氧化钽、三氧化二钽、二氧化钽等 ,作为镀膜材料 ,五氧化二钽是常见的形态。纯净的五氧化二钽熔点 1 872℃ ,密度 8.1 g/cm3～ 8.7g/cm3,溶于熔融的硫酸氢钾和氢氟酸 ,不溶于水或其它酸

五氧化二钽是一种很好的高折射率镀膜材料 ,折射率 2 .1 ,它与二氧化硅组合镀制的增透膜、反射膜、干涉滤光片等膜层牢固、化学稳定性好、抗激光损伤能力强。

Ta2O5薄膜具有较高的折射率和热稳定性、低吸收、无定形微结构和耐化学腐蚀等优点，广泛应用于制备多种光学元件的减反膜、高反膜、分光膜和干涉滤光膜

生产晶书钽的原料。也用于电子工业。供拉钽酸锂单晶和制造高折射低色散特种光学玻璃用,化工中可作催化剂。

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