北京F113清洗剂发泡剂制冷剂

用于工业污垢清洗的化学制剂，一般应满足下述的技术要求。用于不同的清洗目的与清洗对象的清洗剂，对于这些要求可以有所侧重或取舍。
(1)清洗污垢的速度快，溶垢彻底。清洗剂自身对污垢有很强的反应、分散或溶解清除能力，在有限的工期内，可较彻底地除去污垢。
(2)对清洗对象的损伤应在生产许可的限度内，对金属可能造成的腐蚀有相应的抑制措施。
(3)清洗所用药剂便宜易得，并立足于国产化；清洗成本低，不造成过多的资源消耗。
(4)清洗剂对生物与环境无毒或低毒，所生成的废气，废液与废渣，应能够被处理到符合国家相关法规的要求。
(5)清洗条件温和，尽量不依赖于附力口的强化条件，如对温度、压力、机械能等不需要过高的要求。
(6)清洗过程不在清洗对象表面残留下不溶物，不产生新污溃，不形成新的有害于后续工序的覆盖层，不影响产品的质量。
(7)不产生影响清洗过程及现场卫生的泡沫和异味。

电力电子行业的清洗
排灰管、回水管、溢流水母管、低压水母管、化学水达标排放管道、蒸汽管网、冷却塔、结晶器（电缆厂）清洗、除尘器水系统、变压器水冷系统、制冷机组、换热器、油路控制系统、凝汽器、除氧器、汽轮机、空气预热器、省煤器、电子显示器、电器柜清洗
通讯行业清洗
**基站、交换机、通讯线路、电源设备等
冶金行业的清洗
制氧厂：冷却器、冷却塔、循环水管道、贮罐、压缩机清洗
烧结厂：空压机、氮压机、氧压机、氧气管线、管线、油系统清洗
炼铁厂：炼铁炉、水冷系统、冶炼炉冷却夹套清洗
炼钢厂：水冷系统、油系统清洗
焦化厂：各种换热器、管线、工艺管线、初冷器清洗

杂质浓度控制
为了保持溶液的清洁效力，将清洗槽内的杂质保持在较低的浓度，如20%，是非常重要的。此浓度取决于所需的清洁程度。杂质可通过测量溶剂的比重和沸点来监测。初次使用HCFC-141b时，建议每周监测清洗槽，以确保杂质在控制范围内。然而，由于不同的客户使用情况不同，可根据各自的需要缩短或延长监测频率。
如同在任何溶剂系统中一样，杂质都会累积。因此也可以用PH值来反映清洗系统受污染情况。

.物理清洗是利用力学、声学、光学、电学、热学的原理，依靠外来能量的作用，如机械摩擦、超声波、负压、高压、冲击、紫外线、蒸汽等去除物体表面污垢而不改变污类组分的清洗方法。即不改变原来的化学分子组分的方法。
①机械清洗法：清扫器和刮刀清理法、钻管清洗法、喷丸清洗法。
②水力清洗法：低压水力清洗（低压清洗的压力为196-686千帕，大约2-7公斤力/平方厘米，等于0.2-0.7Mpa）。
③高压水力清洗：高压清洗的压力为4900千帕，大约50公斤力/平方厘米，等于5Mpa。这种情况方法也叫高压水射流法、高压清洗机。

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