磁控溅射技术是20世纪70年始应用于实践的,其制备薄膜的原理:在真空室充入压强0.1-l0 Pa的惰性气体(Ar)的同时,在阴极靶材下面放置了100~1000Gauss强力磁铁。
AZO靶材:
成份组成按照客户要求,相对密度+99.3%(+5.55g/cm3),体电阻率≤1.0×10-3Ω。cm,单片尺寸300mm*250mm*20mm,提供帮定支持。
具有沉积速率高、基片沉积温度低、成膜粘附性好、易控制、成本低,能实现大面积制膜的优点,成为当今工业化生产、研究多、成熟、应用广的一项成膜技术,也是AZO薄膜制备中常用的方法。
AZO膜的制备方法中,研究和应用广泛的是磁控溅射技术。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。