成都磁控溅射五氧化二钽靶材定制

Ta2O5薄膜具有较高的折射率和热稳定性、低吸收、无定形微结构和耐化学腐蚀等优点，广泛应用于制备多种光学元件的减反膜、高反膜、分光膜和干涉滤光膜

五氧化二钽靶材------ InChI=1/5O.2Ta/rO5Ta2/c1-6(2)5-7(3)4五氧化二钽（Ta2O5）为白色无色结晶粉末，是钽常见的氧化物，也是钽在空气中燃烧生成的终产物。主要用作拉钽酸锂单晶和制造高折射低色散特种光学玻璃用，化工中可作催化剂

氧化钽化合物有多种价态 :如一氧化钽、三氧化二钽、二氧化钽等 ,作为镀膜材料 ,五氧化二钽是常见的形态。纯净的五氧化二钽熔点 1 872℃ ,密度 8.1 g/cm3～ 8.7g/cm3,溶于熔融的硫酸氢钾和氢氟酸 ,不溶于水或其它酸

离子束溅射Ta2O5薄膜的研究主要集中在离子束、烘烤温度和工作气体流量比等参数的优化以及热处理对薄膜性能的影响上，并获得了离子束溅射制备Ta2O5薄膜的折射率、消光系数、应力、化学计量比、微结构和光学带隙等特性。

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