苏州高纯氮化钽靶材价格 TaN靶材

一定工作压力下，制备的氮化钽薄膜硬度高达４０００ｋｇ／ｍｍ２以上。本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因，并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因

氮化钽为黄绿色结晶，属型结晶，相对密度为15.6。晶格常数为a=0.4336nm，c=0.4150nm。熔点为2950℃，显微硬度为3200kg/mm2，转化点温度为17.8K。

利用磁控反应溅射技术制备氮化钽薄膜，对磁控反应溅射制备氮化钽薄膜的工艺参数（包括氮分压比、加热温度、溅射压力、溅射电流）用正交设计进行优化

研究表明，影响氮化钽薄膜结合力的主要因素为溅射压力和加热温度，氮分压比、溅射电流为次要因素；氮分压对氮化钽薄膜的硬度影响较大

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