• 泉州氮化铝靶材报价 氮化铜靶材

    泉州氮化铝靶材报价 氮化铜靶材

  • 2021-01-31 17:42 41
  • 产品价格:650.00
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    产品描述
    氮化铝靶材,共价键化合物,是原子晶体,属类金刚石氮化物、六方晶系,纤锌矿型的晶体结构,无毒,呈白色或灰白色
    泉州氮化铝靶材报价
    电学特性
    GaN的电学特性是影响器件的主要因素。未有意掺杂的GaN在各种情况下都呈n型,的样品的电子浓度约为4×1016/cm3。一般情况下所制备的P型样品,都是高补偿的。
    很多研究小组都从事过这方面的研究工作,其中中村报道了GaN迁移率数据在室温和液氮温度别为μn=600cm2/v·s和μn= 1500cm2/v·s,相应的载流子浓度为n=4×1016/cm3和n=8×1015/cm3。近年报道的MOCVD沉积GaN层的电子浓度数值为4 ×1016/cm3、<1016/cm3;等离子激活MBE的结果为8×103/cm3、<1017/cm3。
    未掺杂载流子浓度可控制在1014~1020/cm3范围。另外,通过P型掺杂工艺和Mg的低能电子束辐照或热退火处理,已能将掺杂浓度控制在1011~1020/cm3范围。
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    在探测器方面,已研制出GaN紫外探测器,波长为369nm,其响应速度与Si探测器不相上下。但这方面的研究还处于起步阶段。GaN探测器将在火焰探测、预警等方面有重要应用。
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    因为GaN是宽禁带半导体,极性太大,则较难以通过高掺杂来获得较好的金属-半导体的欧姆接触,这是GaN器件制造中的一个难题,故GaN器件性能的好坏往往与欧姆接触的制作结果有关。现在比较好的一种解决办法就是采用异质结,首先让禁带宽度逐渐过渡到较小一些,然后再采用高掺杂来实现欧姆接触,但这种工艺较复杂。总之,欧姆接触是GaN器件制造中需要很好解决的一个主要问题。
    公司是生产高**属材料,蒸发镀膜材料以及溅射材的应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以拥有多名中技术人员和化应用实验室,具有很强的蒸发材料开发能力。公司先后研发的蒸发材料、溅射材系列产品广泛应用到国内外众多电子、太阳能企业当中,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好。

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公司是生产高**属材料,蒸发镀膜材料以及溅射材的应用开发的科技型民营股份制工贸有限公司。公司以拥有多名中技术人员和化应用实验室,具有很强的蒸发材料开发能力。公司先后研发的蒸发材料、溅射材系列产品广泛应用到国内外众多电子、太阳能企业当中,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户好。
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