武汉多段控温管式炉价格

箱式电阻炉
         产品说明:
本系列电阻炉系周期作业式，供实验室、工矿企业、科研单位对小型钢件热处理，金属、陶瓷材料烧结、熔解、分析及高温加热用。
主要特征:箱体由优质钢板折制焊接而成，表面采用静电喷涂工艺，炉膛由高温耐火材料烧结而成，炉膛与外壳之间用保温材料填砌，以硅碳棒或硅钼棒为加热元件，与控制器配套使用可对温度进行测量、显示、控制，使炉内温度保持恒定。
技术参数:
名称 型号 温度（℃） 炉膛尺寸W*P*H（cm） 容 积
(L) 电源 输入功率（KW）
箱式电阻炉 SX2-2.5-10N  
 SX2-4-10N  212

多段控温管式炉
鑫昌实验仪器XCS系列中高温程控马弗炉，适用于各类大专院校实验室、工矿企业化验室，供化学分析、煤质分析、物理测定以及金属、陶瓷的烧结和溶解、小型工件等的加热、焙烧、烘干、热处理用。          型号：XCS-GS17E（定做型）
技术参数：
     1  管径：80mm
 2、温度： 1700℃ 使用温度：室温到1600℃    使用温度：400-1500℃
3、恒温时温度稳定性：±1℃
4、炉膛材料：采用进口多晶复合陶瓷纤维材料，
5、电源电压：380V      
6、炉体自身变压器功率＞17KW(特制变压器)
7、加热元件：特制硅钼棒
8、测温元件：白金（双铂铑热电偶B型）
9、控制方式：程控、模糊PID调节、 PID参数自整定功能，手动/自动无干扰切换功能，超温报警功能，可编程序10段
10. 配有通讯接口可连接电脑和记录仪
11、电流输出方式：双向可控硅模块输出
12、升温速度：1200度以下 每分钟20度左右；1200度以上，每分钟10度左右。（也可以根据实际情况适当调整升温速度）
13、 加热功率可随设定升温情况自动调节，凸显节能效果。
14、显示视窗：测量温度，设定温度双显示，加热功率光柱显示。
15.节能性能：重量轻，升温快，节能60%以上，省时省力
16、控制特点：控制系统模块化结构，设备关键部件长寿命设计，工艺简单可靠、稳定性好、精度高。

PECVD系统 等离子体化学气相沉积系统
窗体底端
PECVD系统 
PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition)等离子体增强化学气相沉积法。 
本设备是借助射频等使含有薄膜组成原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积(PECVD)。 
本设备主要由管式加热炉体，真空系统，质子流量供气系统，射频等离子源，石英反应腔室等部件组成。 
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。 
系统选型 
项 目  推荐选型 
管式加热炉体  
石英反应腔室  根据需求选择不同直径的石英管作为反应室。有Φ40，Φ60，Φ80，Φ100，Φ120，Φ150等规格可选。 
真空系统  根据需求选择不同真空效果的真空系统。有DZK10-1（极限真空0.1Pa），GZK10-3（极限真空0.001Pa），以及进口高真空机组（极限真空0.0001Pa）供选择。 
质子流量供气系统  根据需求选择多路质子流量供气系统。有两路GQ-2Z，三路GQ-2Z，四路GQ-2Z，五路GQ-2Z或更多路供选择。 
射频等离子源  根据需求选择强度不同的射频电源。有DLZ300（300W），DLZ500（500W）或更大功率的射频电源供选择。 
常见PECVD系统组合  1. 1200度60滑轨式微型管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，300W射频电源 
 MXG1200-60S-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ300 
 2. 1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 
 3. 1200度60双温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60II-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 
 4. 1200度60三温区滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60III-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500 
 5. 1200度60微型预热炉，1200度60滑轨式管式炉，低真空系统，四路质子流量供气系统，500W射频电源 
 MXG1200-60S，MXG1200-60-SL，DZK10-1，GQ-4Z，DLZ500

真空钼丝炉 VMSF系列 钼丝炉
用途：
本设备适用于各种金属材料及其合金、非金属材料在高真空，高温条件下进行烧结、退火、钎焊、除气处理。也适用于对烧结环境有洁净要求的材料的热处理，例如石英材料的脱羟处理。本电炉蕞高温度可达1600℃。
结构：
根据客户要求及加热区尺寸不同，本公司生产的真空钼丝炉有立式，卧式，底装式等不同结构。钼丝为加热元件，全金属隔热反射屏保温。主要由炉身，炉盖，发热隔热屏，真空系统和电器控制柜等组成。炉身与炉盖均为水冷夹层结构。内壁为不锈钢，外壁为碳钢，炉身上装有热电偶测温孔。炉盖的升降采用凸轮偏转机构，炉衬采用金属隔热屏结构。炉盖顶部开有观察孔，可观察炉内工作情况。发热体用钼丝加工成之字形钼笼，周围由钼片或不锈钢片组成隔热屏的整体进行隔热。真空系统由油扩散泵，机械泵及真空阀门和管道等组成。电器控制系统由可控硅调压器，大电流变压器，温控仪表及相关电器元件组成。
特点：
1. 独有的加热元件布置结构，炉温均匀好，寿命长。
2. 独有的保温结构，节能性，长寿命。
3. 独有的一体化水、电联接结构，具有故障低，调试快。维护方便的特点。电路设有断水、过流、炉内超温及冷却水超温报警及保护功能。
4. 炉内设有充气超压防爆系统。
5. 人性化设计，合理配置。模拟操作界面及PLC适应生产需要，故障低，自动化程度高，是连续生产产品品质的保证。
VMSF系列 真空钼丝烧结炉 
设备型号  VMSF15-16  VMSF30-16  VMSF25-16  VMSF40-16  VMSF50-16  VMSF80-16  VMSF100-16  VMSF150-16  
加热尺寸  φ90×120  φ160×160  φ150×200  φ200×300  φ300×400  φ350×600  φ500×500  φ600×600  
冷态真空  0.005 Pa 0.005 Pa 0.005 Pa 0.005 Pa 0.005 Pa 0.005 Pa 0.005 Pa 0.005 Pa 
热态真空  0.05 Pa 0.05 Pa 0.05 Pa 0.05 Pa 0.05 Pa 0.05 Pa 0.05 Pa 0.05 Pa 
蕞高温度  1600℃  1600℃  1600℃  1600℃  1600℃  1600℃  1600℃  1600℃  
使用温度  1550℃  1550℃  1550℃  1550℃  1550℃  1550℃  1550℃  1550℃  
功 率  15KW  30KW  25KW  40KW  50KW  80KW  100KW  150KW  
电 压  三相380V  三相380V  三相380V  三相380V  三相380V  三相380V  三相380V  三相380V  
加热元件  钼丝  钼丝  钼丝  钼丝  钼丝  钼丝  钼丝  钼丝  
测温元件  铂铑热电偶  铂铑热电偶  铂铑热电偶  铂铑热电偶  铂铑热电偶  铂铑热电偶  铂铑热电偶  铂铑热电偶  
压升率  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h  ≤2Pa/h

陕西鑫昌实验仪器设备有限公司专注于销售低温系列，高温系列，高精度系列，超声波系列，光催化系列，光解水制氢系列等实验仪器。
主营业务产品：
低温恒温槽、温冰箱、冷冻干燥机、雪花制冰机、水浴恒温摇床、低温冷却液循环泵、无菌均质器、光化学反应仪、光解水制氢系统、超声波清洗机、超声波细胞粉碎机、高/低速离心机、紫外分析仪、培养箱干燥箱系列产品等。