大庆日本Fujimi PWA

我司主要生产：半导体研磨用MCA平板状氧化铝微粉，低纳系列a-氧化铝，陶瓷用a-氧化铝，耐火材料用a-氧化铝、蓝宝石，不锈钢抛光用a-氧化铝、低温氧化铝细粉等系列产品。MCA平板状氧化铝抛光研磨微粉性能指标 粒度分布表 单位微米（μm）产品名称	dv-0值	dv-3值	   dv-50值	dv-94值MCA40	<.6	39-44.6	   27.7-31.7	18-20MCA35	<.2	35.4-39.8	    23.8-27.2	15-17MCA30	<50.4	28.1-32.3	    19.2-22.3	13.4-15.6MCA25	<40.1	24.4-28.2     16.1-18.7	9.6-11.2MCA20	<32.0	20.9-24.1	    13.1-15.3	8.2-9.8MCA15	<25.2	14.8-17.2	    9.4-11	        5.8-6.8MCA12	<20.3	11.8-13.8	    7.6-8.8	        4.5-5.3MCA09	<16.3	8.9-10.5	    5.9-6.9    	3.3-3.9MCA05	<12.5	6.6-7.8	    4.3-5.1	        2.55-3.05MCA03	<10.0	4.8-5.6	    2.8-3.4	        1.5-2.1化学指标AL2O3	SiO2	Fe2O3	Na2O>99.0	<0.2	        <0.1	          <1MCA平板状氧化铝产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多晶硅片、液晶显示器（LCD）玻璃基板、光学玻璃、水晶、硬质玻璃、显像管玻壳玻屏、石英玻璃、压电石英晶体、化合物半导体材料、轴承球、衬、蓝宝石，精密陶瓷材料、磁性材料等。同时它还可做烧结陶瓷原料、高温涂料(油漆,密封胶,化妆品)的填充材料。包装：10公斤/塑料袋，纸箱装，20公斤/箱产品粒度以客户使用要求标准为准，可以根据客户要求定制。研磨机磨板的材质对于加工不同的晶片要进行选择，普遍采用的是经工艺铸造加工的球墨铸铁板，要求磨板表面在一定厚度内的球状石墨粒度大小适中、分布均匀，磨板表面各处的硬度均匀。对于化合物半导体材料，晶片的研磨加工采用特种玻璃制造的磨板。双面研磨机的上、下两块磨板的自身平整度和相互的平行度将决定晶片研磨的平行度。

淄博淄川大众磨料厂(淄博众力达新材料有限责任公司）位于全国氧化铝,陶瓷生产基地---淄博，成立于1999年，二十多年来一直致力于氧化铝材料的研制与开发。 公司2003年被国家技术部评为国家重点**企业，并获得了”黉雪“商标注册。2005年通过ISO9001:2000**质量体系认证。公司拥有一批多年从事化工领域的研究人员，带领我司走在行业*，并及时为客户提供技术支持与服务。我司主要生产：半导体研磨用MCA平板状氧化铝微粉，低纳系列a-氧化铝，陶瓷用a-氧化铝，耐火材料用a-氧化铝、蓝宝石，不锈钢抛光用a-氧化铝、低温氧化铝细粉等系列产品。其中我司拥有自主知识产权的MCA（平板状氧化铝研磨微粉）系列产品的**技术，该产品填补了国内在磨料上的空白，改变了我国长期依赖进口的局面，产品稳定供应国内企业并出口美国欧洲日本、韩国，马来西亚，闽台等地。公司MCA(平板状氧化铝研磨抛光微粉Platelet Calcined Alumina)系列产品以工业氧化铝为主要原料，纯度达到99%以上，具有优异的耐热性，耐酸碱腐蚀性，采用*特的生产工艺，使其颗粒尺寸较均匀，硬度高达莫氏九级，仅次于金刚石，是非常优异的精密研磨抛光、研磨微粉。MCA（平板状氧化铝研磨微粉)的晶体形状为六角平板状，不同于传统磨料的等体积或者球形，此形状使磨料颗粒在研磨过程中平行于被加工工件（如半导体硅片等）表面，产生滑动的研磨效果，而非传统的磨料滚动研磨，因而不容易对工件表面产生划伤，同时因为研磨压力是均匀分布在平板颗粒表面，颗粒破碎减少，耐磨性大幅度提高，因而能提供的磨削效率和表面光洁度。质量同日本 FUJIMI公司的PWA和美国Microgrit 的WCA相当。MCA产品特别适合研磨、抛光半导体单晶多..