洁净室的发展与现代工业、技术密切联系在一起。由于精密机械工业(如陀螺仪、微型轴承等加工)、半导体工业(如大规模集成电路生产)等对环境的要求,促进了洁净室技术的发展。国内曾统计过,在无洁净级别的要求的环境下生产MOS电路管芯的合格率仅10%~15%,64为储存器仅2%。目前在精密机械、半导体、宇航、原子能等工业中应用洁净室已相当普遍。 [1]
洁净室设计对生产工艺的要求编辑
(1) 洁净环境是为生产工艺服务的,洁净室设计必须满足生产工艺的环境要求,这是理所当然的。因此,在洁净室设计时生产工艺对环境参数的要求应该实事求是,其面积、层高,温度、湿度,洁净度等应该该高则高,该低则低,并非越高越好。在不影响生产工艺正常运行的前提下尽可能地降低参数要求,控制净化面积,缩小高净化级别洁净区的范围,严格控制100级和较**别单向流洁净区的面积。 [3]
(2)在生产工艺平面区划时尽可能把相同级别的洁净房间布置在一起,把洁净度要求高的工序设置在上风侧,把产生粉灰、有毒、有害、易燃、易爆废气的工艺设备、容器尽可能放在洁净区外,若必须放在洁净区内时应尽量采取密闭措施以减少粉尘和废气的排放量。 [3]
按受控粒子的性质划分
(1)工业洁净室:受控粒子为尘埃等非生物粒子的洁净室。
(2)生物洁净室:受控粒子为生物粒子的洁净室。
矢量洁净室:在房间的侧上角送风,采用扇形*过滤器,也可以用普通*过滤器配扇形送风口,在另一侧的下部设回风口,房间的高长比一般在0.5~1之间为宜。这种洁净室也可以达到5级(100级)洁净度。
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