靶材的主要性能要求:
纯度
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。不过在实际应用中,
对靶材的纯度要求也不尽相同。例如,随着微电子行业的迅速发展,硅片尺寸由6”, 8“发展到
12”, 而布线宽度由0.5um减小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材纯度可以满足
0.35umIC的工艺要求,而制备0.18um线条对靶材纯度则要求99.999%甚至99.9999%。
溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息存储、液晶显示屏、激光存储器、电子
控制器件等;亦可应用于玻璃镀膜领域;还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、装饰用品等行
业。
分类
根据形状可分为长靶,方靶,圆靶,异型靶
根据成份可分为金属靶材、合金靶材、陶瓷化合物靶材
根据应用不同又分为半导体关联陶瓷靶材、记录介质陶瓷靶材、显示陶瓷靶材、**导陶瓷靶材和
巨磁电阻陶瓷靶材等
根据应用领域分为微电子靶材、磁记录靶材、光碟靶材、贵金属靶材、薄膜电阻靶材、导电膜靶
材、表面改性靶材、光罩层靶材、装饰层靶材、电极靶材、封装靶材、其他靶材
进入20世纪90年代以来,随着新技术和新材
料,特别是微电子行业的新器件和新材料的飞速发展,溅射靶材的市场规模日益扩大。!1990"年世界靶材市场销售额为336-397亿日元,年增长率达到 20%;!1991!年约为377-443亿日元, 年增长率为10% 。!1995年仅日本的靶材市场就已达到500亿日元[G] 。据不完全统计,!1999年世界靶材市场的 年销售额近!10亿美元,其中日本的市场份额**过世界市场的一半,美国的市场份额约占世界的三分之一,中国大陆的年销售额约E""300-500"万美元,闽台地区的年销售额约2500""万美元。由于电子薄膜、光学薄膜、光电薄膜、磁性薄膜和**导薄膜等在**和工业上的大规模开发应用,靶材已逐渐发展成为一个专业化产业。随着**的不断发展,世界的靶材市场还将进一步扩大
专业生产销售各种金属靶材:钛靶、铬靶、锆靶、镍靶、铝靶、铜靶、钨靶、钼靶、钽靶、铌靶
、钛铝靶、钛铌靶、钛锆靶、镍铬靶及各种比例的合金靶材、大口径圆柱靶、平面靶、钨钼舟、
坩埚、蒸发镀颗粒等.
欢迎广大新老客户的来电咨询洽谈。
醴陵市利吉升新材料有限公司是专业生产销售高**属材料,合金材料 , 陶瓷材料等蒸发镀膜材料以及溅射靶材.公司产品广泛应用于半导体、光电、OLED、装饰镀膜、太阳能光伏、磁记录等镀膜领域,公司拥有专业的技术研发人员,拥有经验丰富的镀膜材料生产加工技术人员,长期服务于国家科研项目及**镀膜产业。和多所高校研究所建立长期的合作关系,以较高的性价比,成功发替代了国外进口产品,颇受用户**。