• 镉靶材Cd磁控溅射靶材

    镉靶材Cd磁控溅射靶材

  • 2021-10-29 15:25 191
  • 产品价格:面议
  • 发货地址:北京市通州区张家湾镇包装说明:真空包装
  • 产品数量:不限产品规格:根据客户要求定制
  • 信息编号:52859367公司编号:4230561
  • 刘亚力 销售
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    产品描述
    科研实验专用镉靶材Cd磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
    产品介绍
          镉(Cd)是银白色有光泽的金属,有韧性和延展性,可溶于酸,但不溶于碱,在潮湿空气中缓慢氧化并失去金属光泽,加热时表面形成棕色的氧化物层,若加热至沸点以上,则会产生氧化镉烟雾;高温下镉与卤素反应激烈,形成卤化镉,也可与硫直接化合,生成硫化镉。 镉主要用于钢、铁、铜、黄铜和其他金属的电镀,对碱性物质的防腐蚀能力强;可用于制造体积小和电容量大的电池;镉的化合物还大量用于生产颜料和荧光粉;硫化镉、硒化镉、碲化镉用于制造光电池。
    产品参数
    中文名 镉            符号 Cd              分子量 112.41
    沸点 767℃           熔点 321.1℃         密度 8.65g/cm3
    支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!! 
    服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!
    产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
    适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
    质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。 
    加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
          陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!
           我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。
           注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!
           建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2。
    


    欢迎来到北京晶迈中科材料技术有限公司网站,我公司位于拥有6项世界级遗产,拥有文化遗产项目数最多的城市,一座有着三千余年建城历史、八百六十余年建都史的历史文化名城,拥有众多历史名胜古迹和人文景观的中国“八大古都”之一 —北京。 具体地址是北京通州张家湾公司街道地址,联系人是张英。
    主要经营北京晶迈中科材料技术有限公司专业从事金属溅射靶材,陶瓷溅射靶材、蒸发镀膜等。
    我公司主要供应磁控溅射靶材,金属靶材,陶瓷靶材等,产品销售全国各地,深受企业用户的信任和好评!期待与您的合作!

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