磁控溅射旋转靶,属于磁控溅射镀膜技术领域,解决磁控溅射镀制薄膜电池膜层的厚度一致性等技术问题,磁控溅射旋转靶包括靶筒、靶轴、靶材和磁体,靶材装在靶筒的外壁上,磁于靶筒内部,靶筒的两端设有连接构件,连接构件由端头、靶轴支承座和连接夹套组成,端头由连接夹套安装在靶筒的两端,靶轴支承座安装在端头内,靶轴的一端装有磁体移动机构,另一端装有靶材旋转机构。
积极效果是通过调节靶电源以及旋转靶上的磁铁和靶材之间距离,调整靶材表面的磁场,保证所镀膜层厚度的均匀性和致密度的一致性。
一种聚合物加工工艺。利用圆筒状模具旋转产生的离心力将树脂均匀地喷洒到模具内壁形成制品的方法,也可以在模具内预置编织套、纤维毡,或在树脂中混合短切纤维同时喷洒。
内置防真空打弧设计,多层级真空密封,保证长时间连续旋转而不漏气。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。