各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来,溅射靶材及溅射技术的同步发展,较大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。
靶材固体中的杂质和气孔中的氧气和水气是沉积薄膜的主要污染源。
此外,提高靶材的密度和强度使靶材能较好地承受溅射过程中的热应力。密度也是靶材的关键性能指标之一。
纯度是靶材的主要性能指标之一,因为靶材的纯度对薄膜的性能影响很大。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。