在离子束溅射石墨靶淀积dlc膜的同时用离子束轰击,对于拓宽和改善DLC膜的性质有重要意义。
为避免在溅射过程中因为不洁净的腔体导致短路和起弧,有必要阶段性的除去溅射轨道中间及两侧堆积的溅射物,这也有助于用户可以连续以功率密度进行溅射。
石墨靶材自身具有耐高温、自润滑、耐腐蚀、导电性良好等特点,用石墨做靶材,在选材上市重要的环节,根据行业的不同选用不同材质的石墨材料,然后就要考虑石墨靶材加工中的技术问题,靶材材质的要求很严格,对加工技术的要求同样是一丝不苟的。石墨靶材的精度和误差都是重要的因素。
石墨靶是通过没有粘合材料而在高温和高压力下模压石墨粉末制成的。
世高 主营靶材— 高性能薄膜新材料,属国家**,于2007年成立溅射靶材公司。在交利的江苏苏州昆山设立了生产和研发基地。世高一直致力于高性能材料的研发和生产,为靶材的国产化作出了重要贡献。 世高新材料的产品广泛应用于半导体显示、半导体芯片、光伏太阳能、低辐射玻璃、光学光通讯、装饰镀工具镀等行业。公司经过多年努力,成功获得行业客户和**的认可,积累了一批优质稳定的行业客户,包括日久光电、 蓝思科技、芜湖长信、信利光电、镀邦光电 、伯恩光学等。