渗透/电去离子(RO/EDI)集成膜技术是近年来迅速发展成熟,并得到大规模工业应用的较新一代**纯水制造技术,在**上已逐渐成为纯水技术的主流。RO/EDI的集成膜技术在电子企业用水,实验室纯水系统,电厂用水等方面具有*特的优势。
1,PH范围:0-14
2,允许温度:钠型≤120氢≤100
3,膨胀率%:(NA+到H+):≤10
4,工业用树脂层高度m:≥1.0
5,再生液浓度%:NACL6-10HCL5-10H2SO4:2-4
6,再生剂用量kg/m3(按**计工业品):NACL75-150HCL40-100H2SO4:75-150
7,再生液流速m/h:5-8
8,再生接触时间Minute:30-60
9,正洗流速m/h:10-20
10,正洗时间minute:约30
11,运行流速m/h:10-40
12,工作交换容量mmol/l(湿):食盐再生≥1000盐酸再生≥1500
主要应用于水的直接纯化,电子工业纯水的制备,以及其它各种水处理工艺的后续混床精处理。适用于出水要求高且不具备高要求再生条件的各水处理领域,诸如显示设备﹑计算器硬盘﹑CD-ROM﹑精密线路板﹑离散电子设备等精密电子产品行业、医药及医疗、化妆品行业、精密机械加工行业等
纯水电阻率:(25℃)理论上纯水不导电,实际中蒸馏水的电阻率是 0.1×10^6Ω·cm(欧·厘米)。
**纯水电阻率:(25℃)电阻率达到10MΩ*cm;电阻率在工作温度25℃时,较高理论值能达到18.3MΩ?cm。实际**纯水设备产水在线测试较高值是18.2MΩ?cm。
纯化水电阻率:制药行业的纯化水的电阻率通常应≥0.5MΩ.CM/25℃,对于注射剂、滴眼液容器冲洗用的纯化水的电阻率应≥1MΩ.CM/25℃。
**纯水(Ultrapure water)又称UP水,是指电阻率达到18 MΩ*cm(25℃)的水。这种水中除了水分子外,几乎没有什么杂质,较没有细菌、病毒、含氯二恶英等**物,当然也没有人体所需的矿物质微量元素,也就是几乎去除氧和氢以外所有原子的水。可以用于**纯材料(半导体原件材料、纳米精细陶瓷材料等)应用蒸馏、去离子化、反渗透技术或其它适当的**临界精细技术的制备过程
应用领域
5.1单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺用纯水。
:电去离子技术利用树脂吸附离子,提高膜间导电性,同时利用电能迫使水解离为氢离子和氢氧根离子,对树脂进行再生,因而实现树脂在进行离子交换的同时进行就地再生,并不产生额外的废酸碱污染,提高生产效率并减少污染排放。
我们以回收旧树脂、旧离子交换树脂为主。在全国内及国外一些大量收购各类化工单位行业。如:电厂、石油、化工、轻工、冶金、电子、医、食品、化肥厂、科研及三废治理等领域,水处理锅炉用下的废旧阴阳离子交换树脂及库存积压树脂等。 本公司秉承现金交易,真诚合作,提货付款的宗旨,愿与社会各界同仁,同进步共发展,携手共创美好明天。