供应石久Ni靶镍靶,金属靶材，溅射靶材

高纯镍靶
化学符号：Ni 
纯  度：99.9%、**、99.999%
规格：Φ50.8*5其他规格可根据客户需求定做！
密  度：8.9 
熔  点：1450℃
原子量：58.69 
沸点约：2737℃
电阻率/μΩ.cm：6.84 
电阻温度系数/℃-1:6.84×10-3
汽化温度/℃：1382 
蒸发温度：饱和蒸汽压为1.33Pa时为1530℃ 
蒸发源材料：(BeO、Al2O3)坩埚、W（丝、片）
优  点：镍具有磁性、良好的抗氧化性、镍的抗腐蚀能力很强、强度和塑形也很好。能与难熔金属形成合金，形成好附着力膜。
用  途：用作金属材料，用作电镀，用作催化剂，用作**电池材料，制作颜料和染料，用于陶瓷工业
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他规格根据客户要求定做. 提供规格的铜靶托、钼靶托、铝靶托、钛靶托；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材的背面金属化服务；提供金属靶材,合金靶材,陶瓷靶材与靶托的绑定服务。
石久高研金属材料有限公司真诚期待与您的合作！
北京石久高研金属材料有限公司
联系人：胡小磊
联系电话：
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地址：北京昌平区水南路*B坐213室

北京石久高研金属材料有限公司（简称石久高研）成立于2005年是经北京市科学技术**确认的**企业。 自公司成立以来受到 有色金属研究总院、*、*大学等**科研院校的大力支持，并保持着长期稳定的合作关系。
石久高研致力于镀膜靶材和蒸发料的研发和生产工作，为电子行业、玻璃工业、数据存储、装饰镀膜、工具镀膜等行业的镀膜企业提供**的靶材和蒸发料。公司拥有*的镀膜材料领域的**人才，具有雄厚的研发、生产实力。随着近年来高科技领域内薄膜的兴起和蓬勃发展，特别是微电子与光电子产业*发展，对镀膜材料的要求也达到了一个新的高度，公司密切关注国内外镀膜及镀膜材料的发展方向，为相关行业提供较**、较**的镀膜材料。 
目前，我们的客户遍及美国．德国．日本．韩国．闽台．中国香港等十几个地区和地区，包括国内外科研**，上市公司等**企事业在内的六百余家单位。
      北京石久高研金属材料有限公司下设镀膜材料、溅射靶材、金属粉末、高纯材料等事业部，热烈欢迎新老客户垂询。我公司秉承以诚信为本，科技为本的理念，致力打造成金属新材料行业的**羊。
 主要产品：
 磁控溅射靶材
 （可为电子与半导体，平面显示行业，建筑与汽车玻璃行业，薄膜太阳能电池行业，磁存储行业，工具行业，装饰行业提供**靶材）
 高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶材Al，铬靶材Cr，铜靶材Cu，镍靶材Ni，硅靶材Si，锗靶材Ge，铌靶材Nb，钛钯材Ti，铟靶材In，银靶材Ag，锡靶材Sn，石墨靶材C，钽靶材Ta，钼靶材Mo，金靶材Au，铪靶材Hf，锰靶材Mn，锆靶材Zr，镁靶材Mg，锌靶材Zn，铅靶材Pb，铱靶材Ir，钇靶材Y，铈靶材Ce，镧靶材La，镱靶材Yb，钆靶材Gd，铂靶材Pt等高纯单质金属溅射靶材。
高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶材、AZO靶材，IGZO靶材，氧化镁靶材MgO、氧化钇靶材Y2O3，氧化铁靶材Fe2O3,氧化镍靶材Ni2O3，氧化铬靶材Cr2O3、氧化锌靶材ZnO、硫化锌靶材ZnS、硫化镉靶材CdS，硫化钼靶材MoS2，二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化锆靶材ZrO2、五氧化二铌靶材Nb2O5、二氧化钛靶材TiO2,二氧化铪靶材HfO2，二硼化钛靶材TiB2，二硼化锆靶材ZrB2，三氧化钨靶材WO3，三氧化二铝靶材Al2O3，五氧化二钽靶材Ta2O5、氟化镁靶材MgF2、硒化锌靶材ZnSe、氮化铝靶材AlN，氮化硅靶材Si3N4，氮化硼靶材BN，氮化钛靶材TiN，碳化硅靶材SiC，铌酸锂靶材、钛酸镨靶材、钛酸钡靶材、钛酸镧靶材等高密度陶瓷溅射靶材.
备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界较**的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术，相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
展望未来，与时俱进。我们将始终坚持“品质就是生命，信誉就是效益”的经营理念，凭借强大的科研实力和精良的制造设备 ，以及对客户高度的责任心 ，相信明辰必将成为行业的**者，与广大客户携手共进，合作双赢，一起迎接明天的辉煌。 
我们热情欢迎国内外客户参观访问、来电咨询,“期待与您共创辉煌、共同发展”！

北京石久高研金属材料有限公司
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地址：北京昌平区水南路*B坐213室