一、特点: 1. 阴极电流效率较高,可达22-26%。 2. 可使用电流密度高达60安培/平方分米以上。 3. 沉积速度较高,是一般传统镀硬铬工艺的2-3倍。 4. 跟其它的混合催化剂镀铬工艺不同,DXF-26不含氟化物,不会侵蚀工件的低电流区。 5. 镀层的显微硬度达1000-1100 KHN 100。 6. 镀层的微裂纹数可达1000条/英寸,防腐蚀能力因而提高。 7. 镀层平滑,细致光亮。 8. 镀层厚度均匀,减少高电流区之过厚沉积。 9. 可用液体添加剂补充,避免铬尘飞扬及溅水。 10. 不会猛烈侵蚀铅锡阳极,*使用特殊阳极材料。 11. 前处理流程、阳极、镀槽等均与一般传统镀铬工艺一样。 二、操作条件: 范 围 标 准 铬 酐 225-275 克/升 250 克/升 硫 酸 2.5-4.0 克/升 2.5 克/升 DXF - 26 10-30 毫升/升 20 毫升/升 温 度 55-60℃ 58℃ 阴极电流密度 30-75安培/平方分米 60安培/平方分米 铬酸/硫酸 70-150 : 1 100 : 1 镀液比重 19-23° 波美 21° 波美 三、DXF-26补充 每添加1㎏铬酐,需添加80毫升DXF-26、硫酸10克(5.4毫升)即可, 期间视乎工件带出消耗而定。 主要用途 : 镀层硬度高,镀层平滑、细致光亮。 ; 执行标准 : 企业标准 ; 类别 : 光亮剂 ; 型号 : DXF-26 ; 种类 : 镀铬添加剂 ;