多阴极的磁控溅射沉积系统 (INFOVION)

*规格
基本系统特点规格                               
沉积方式    共溅射沉积模式
溅射源       3个6英尺磁控溅射源（高压型）
晶圆均匀性  直径6英寸的晶圆可达±5%
电源         3个1000W射频电源
基板加热能力高达500度（均匀度±5%）
基板Z轴运动    0-100mm
基板转速     高达100RPM
过渡舱      全自动晶圆输送系统
气体控制      氩，氧气，氮气
极限压力    ≦1×10-6Torr
操作系统    人机界面软件/基于可编程控制器的过程控制 全自动系统 *互锁系统
 
*应用于
--半导体器件
--导电金属/电阻金属/绝缘膜
--透明导电体（ITO氧化铟锡）
-透镜涂层（反射涂层/抗反射涂层/硬化涂层/彩色涂层）                                     -薄膜传感器
-磁存储介质和磁头（硬盘,巨磁电阻，隧穿磁电阻）
--光伏薄膜（太阳能电池）

镀膜原理 : 溅射镀膜 ;
镀膜材质 : 其他超硬功能性金属膜 ;
镀种 : 真空镀膜 ;
电镀位置 : 轮式喷镀 ;
电镀电源 : 双脉冲电源 ;
产品别名 : 溅射设备 ;
适用范围 : 表面镀膜 ;
型号 : 多阴极的磁控溅射沉积系统 ;
** : INFOVION ;
加工定制 : 是 ;