芯片外壳油污及氧化物等离子清洗机

PL-DW30真空等离子清洗机 
 ，它是利用能量转换技术，在一定真空负压的状态下，以电能将气体转化为活性较高的气体等离子体，气体等离子体能轻柔冲刷固体样品表面，引起分子结构的改变，从而达到对样品表面**污染物进行**清洗，在较短时间内**污染物就被外接真空泵**抽走，其清洗能力可以达到分子级。在一定条件下还能使样品表面特性发生改变。因采用气体作为清洗处理的介质，所以能有效避免样品的再次污染。等离子清洗机既能加强样品的粘附性、相容性和浸润性，也能对样品进行消毒和杀菌。等离子清洗机现已广泛应用于光学、光电子学、电子学、材料科学、高分子、生物医学、微观流体学等领域。
 国产等离子清洗机是在国外等离子清洗机价格贵，难以推广等缺点的基础上，吸取了现有国内外等离子清洗机的优点，结合国内用户的使用需求，采用**科技手段开发出的新型系列等离子清洗机。该产品除拥有其它等离子清洗器的优点外，较具有性能稳定、*、清洗**、操作简便、使用成本较低、易于维护的优点。产品能适应不同用户对设备的特殊要求。清洗舱的材料有耐热玻璃和不锈钢可选择，不锈钢类清洗舱有圆形和方形可选择。。
 功能：
 对金属、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的**污染物 （如石蜡、油污、脱膜剂、蛋白等）进行**清洗。
 改变某些材料表面的性能。
 使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化，加强这些材料的粘附性、相容性和浸润性。
 *金属材料表面的氧化层。
 对被清洗物进行消毒、杀菌。
 优点
 具有性能稳定、*、操作简便、使用成本较低、易于维护的特点。 
 对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行**清洗和改性。 
 ***地*样品表面的**污染物。
 定时处理、**处理、清洗**。 
 绿色环保、不使用化学溶剂、对样品和环境**次污染。
 在常温条件下进行**清洗，对样品非破坏性处理。
 应用领域
 光学器件、电子元件、半导体元件、激光器件、镀膜基片、终端安装等的**清洗。
 清洗光学镜片、电子显微镜片等多种镜片和载片。
 移除光学元件、半导体元件等表面的光阻物质，去除金属材料表面的氧化物。
 清洗半导体元件、印刷线路板、ATR元件、人工晶体、**晶体和宝石。
 清洗生物芯片、微流控芯片、沉积凝胶的基片。
 高分子材料表面的修饰。
 封装领域中的清洗和改性，增强其粘附性，适用于直接封装及粘和。
 改善粘接光学元件、光纤、生物医学材料、宇航材料等所用胶水的粘和力。
 涂覆镀膜领域中对玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面的改性，使其活化，增强表面粘附性、浸润性、相容性，显着提高涂覆镀膜质量。
 牙科领域中对钛制牙移植物和硅酮压模材料表面的预处理，增强其浸润性和相容性。
 医用领域中修复学上移植物和生物材料表面的预处理，增强其浸润性、粘附性和相容性。对医疗器械的消毒和杀菌。
 PL-DW30真空等离子清洗机? 不锈钢舱体：300mm×300mm×350mm
 ? 容量：30 升
 ? 处理过程：分手动与自动控制
 ? 功率：500W
 ? 电源：AC380V
 ? 射频电源：主频13.56MHz
 ? 外形型号
 舱体：不锈钢
 舱门：铝合金
 
 立式 宽度： 600mm（19”）
 高度： 1800mm
 深度： 800mm
 台式 宽度： 600mm（19”）
 高度： 800mm
 深度： 650mm