HC004-ZMP-2000A型 双盘全自动金相试样磨抛机 金相磨抛机 研磨机【上海弘测】

HC004-ZMP-2000A型双盘全自动金相试样磨抛机

 





产品简介：

HC004-ZMP-2000A型双盘全自动金相磨抛机是我司较新开发的新型全自动金相试样磨抛机，是通过多方面市场调研和广泛听取用户的要求、采用****工艺制造而成，是一款非常适合在试样制备量适中的小型试验室使用的经济型产品。

本机为液晶面板显示,研磨抛光时间采用**数字显示，本机具有加工精度高，性能稳定**，操作*，加工范围宽，工作时，磨盘在调速电机的驱动下旋转，采用智能程序化控制实现自动加压、自动识别粗细磨；并根据一设定的高度，按理想的加压保压和分段卸压方式将夹持盘压在转动的磨盘上，从而能**去除试样表面的磨痕和*变形层抛光时间到达后，磨盘停止转动，夹持盘自动提升，从而实现无人监控操作，工作中粗磨和精磨两个阶段系统自动调节。工作过程实现自动化特点，数字显示无极变数，是一种理想的金相试验仪器。

本机可根据不同金属材料的需要现场设置和存储工作参数(速度、压力和时间)，也可从存储器中调用已事先优化的工作参数，具有很高的智能化程度。（对于一般研磨抛光处理，本机采用一道砂纸、一道丝绒足可满足分析要求）

本机可用于单个和多个试样制备。作用在各试样上的力均可分别控制，因此每次可进行1-6个试样的制备，而不需要使用空试样或“假”试样。具有操作简单快捷，试样制备质量高，是各企业，科研院所实现无人制备，节约制备耗材并提高试样制备效率的理想选择。

 

性能特点：

1、双盘双控，无级变速，较*；

2、转速稳定，研磨/抛光盘不抖动；

3、大屏幕液晶数字动态显示整个试验过程；

4、转速自由调节50-1500转；

5、自动研磨抛光，*手动；

6、自动磨抛模式，速度较快，效率较高；

7、双冷却润滑系统；

8、时间、压力自由设定；

9、****，*稳定；

10、多种试验模式可供选择；

 

技术指标：

序号
 类别
 技术指标
 
1
 机体形式
 台式双盘
 
2
 磨盘控制
 双盘双控
 
3
 磨抛方式
 自动/手动
 
4
 显示方式
 液晶屏显
 
5
 磨盘直径
 230mm
 
6
 抛盘直径
 230mm
 
7
 转速调节
 无级变速
 
8
 磨盘转速/加载器转速
 0-1500转/分，自由设定；150转/分
 
9
 制样压力
 0-120N；自由设定
 
10
 预备距离
 0-30mm
 
11
 压力加/卸载
 自动
 
12
 精细磨抛识别
 自动
 
13
 冷却系统
 两通道水冷
 
14
 制样时间
 0－999秒
 
15
 主机功率
 550WX2
 
16
 试样直径
 Φ8-30mm（可定做）
 
17
 制样数量
 同时磨制（1-6个)
 
18
 外形尺寸
 700mm*650mm*750mm
 
19
 电源
 220V/50HZ
 
20
 重量
 75KG
 

 

标准配置：

序号
 名称
 数量
 
1
 主机
 一台
 
2
 研磨盘
 一只
 
3
 抛光盘
 一只
 
4
 试样夹持盘
 一件
 
5
 抛光卡环
 一只
 
6
 装样盘
 一块
 
7
 金相砂纸
 两张
 
8
 抛光绒布
 两张
 
9
 电源线
 一根
 
10
 进水管
 一根
 
11
 出水管
 一根
 
12
 随机文件
 一套

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