PICOSUN公司ALD原子层沉积系统

较**的ALD反应器设计

双腔室设计，独立的反应腔体安装在真空腔体中。好处：1、金属与金属焊接的表面与压力控制使所有的工艺气体都保存在反应腔体中，不会在真空腔体中凝结。2、确保真空腔体的墙壁不会被前驱体及其产物腐蚀。3、真空腔体不需要维护。4、反应腔体的维护变得较加*。反应腔体可以从真空腔体取出来维护，非常方便。5、双重保护确保沉积过程中不会发生化学气体泄漏，并且真空腔体的外壁温度不会过高。6、由于真空腔体温度不高，所以真空腔体的密封圈的寿命较长，不会导致真空腔体漏气，从而影响薄膜质量。7、如果危险化学前驱体泄露，双重腔体较加*


反应腔体表面经过耐腐蚀处理，能够适应氯化物和氟化物等前驱体化学品的强腐蚀，这是其他厂家不具备的。

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