一、用途和特性: 具有**光亮和特高的填平度,低电流密度区也可得到丰满光亮的镀层,在广泛的电流密度范围内都可得到镜面光亮镀层。工作温度范围广,18~35℃都可以得到较好的效果,应力小,长期使用无有害分解产物。对镍的结合力好,不会因产生膜层引起的结合力不良。操作简便,光剂消耗量少。光亮剂稳定性较高。 二、电镀条件: 原料 范围 标准开缸 硫酸铜 160~240克/升 200克/升 硫酸 40~80克/升 65克/升 氯离子 30~100毫克/升 60毫克/升 JJW-MU(开缸剂) 9~12毫升/升 10ml/l JJW-A(填平剂) 0.4~0.6毫升/升
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