◆半导体制造需要接近理论纯水的水理论上纯水在25°C下的电阻率为18.24MΩ·cm,电导率为0.05482μS/cm。该电导率的值为H20+OH-(公式为2H20=H3O+OH-)即,除了氢离子和氢氧根离子以外,没有任何电解质,这是因为水本身的解离。对**纯水的要求是,电阻率至少与理论纯水的电阻率非常接近。实际上,高集成度半导体制造工艺所要求的水质电阻率高达18MΩ·cm以上。例如,在水中溶解1mg/L的Fe离子,其电阻率就会下降到约17MΩ·cm,所以溶解物质的浓度在μgg/L(ppb)的**纯水中也会出现问题,随着半导体产业的发展,水质要求是越来越严格。**纯水设备可以提供纯净的水源。苏州化学品用**纯水设备的常见故障
采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→混床(复床)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点3、采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式,这是一种制取**纯水的工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的**纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点●技术特点1、**种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。苏州精细化工用**纯水使用什么品牌的树脂**纯水设备可以净化水中的微生物和**物。
采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备进行搭配的方式,这是一种制取**纯水工艺,也是一种环保,经济,发展潜力巨大的**纯水制备工艺,其基本工艺流程为:原水→沙炭过滤器→精密过滤器→原水箱→反渗透设备→电去离子(EDI)→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点●技术特点1、**种采用离子交换树脂其优点在于初投资少,占用的地方少,但缺点就是需要经常进行离子再生,耗费大量酸碱,而且对环境有一定的破坏。苏州道盛禾环保科技有限公司
铁锈胶体物质悬浮物色异味生化**物当原水中硬度较高时,可选择全自动软水器,这样有效的保护了反渗透膜,从而延长了反渗透膜的使用寿命。2、反渗透主机主要由高压泵、膜壳、进口反渗透膜组件,在线仪表、控制电气等组成。只要膜的数量及泵的型号选型得当,反渗透主机脱盐率及产水量都能达到额定指标,出水电导率可保证在≤10us.CM以下,(原水电导率小于500us/cm,工作温度:1~40℃)3、后处理部分是对反渗透制取的纯水作进一步的深化处理以制取**纯水,通常是离子交换混床设备或EDI设备,根据客户要求,出水阻率可达到18.2MΩ.CM,如果是应用在直饮水工艺上,则加上杀菌装置即可,通常为紫外线杀菌器或者臭氧发生器,从而使生产出来的水达到直饮标准。**纯水设备的使用年限。
*二种采用反渗透作为预处理再配上离子交换设备,其特点为初投次比采用离子交换树脂方式要高,但离子设备再生周期相对要长,耗费的酸碱比单纯采用离子树脂的方式要少很多。但对环境还是有一定的破坏性。3、*三种采用反渗透作预处理再配上电去离子(EDI)装置,这是目前制取**纯水经济,环保用来制取**纯水的工艺,不需要用酸碱进行再生便可连续制取**纯水,对环境没什么破坏性。其缺点在于初投资相对以上两种方式过于昂贵。●应用场合1.半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路;2.**纯材料和**纯化学试剂;3.实验室和中试车间4.汽车、家电表面抛光处理;5.其他高科技精微产品。**纯水设备可以提供低氯离子的水供应。苏州化学品用**纯水设备的常见故障
**纯水设备可以提供高纯度的水源。苏州化学品用**纯水设备的常见故障
光学材料生产用**纯水设备水质手机面板、光学镜片、光学玻璃清洗对**纯水水质要求高,带电力离子和污垢会对镜片产生不可逆损害,终端水质要求≥17.5MΩ*cm(25℃)。三、光学材料生产用**纯水设备技术光电光学玻璃行业的**纯水设备主要是为玻璃清洗时给超声波提供**纯水,镀膜玻璃镜片清洗**纯水设备设计上,采用成熟、可靠、自动化程度高的两级RO+EDI+SMB除盐水处理工艺,确保处理后的**纯水水质出水电阻率达到18.2MΩ.cm。关键设备及材料均采用主流可靠产品,采用PLC+触摸屏控制,全套系统自动化程度高,系统稳定性高。苏州化学品用**纯水设备的常见故障
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