磁控溅射沉积系统设计

    针对光学和介电功能薄膜制备中的离化率低和靶面污染问题,设计了一种磁控溅射沉积系统,系统包括磁控溅射靶装置、等离子体源和阳极清洗装置。 主要结论有: (1)在磁控溅射靶装置设计..

    喷丸设备工作原理

    喷丸机,区别于国内的喷砂机,其工艺原理是利用高速运动的弹丸流对金属表面的冲击而使表面产生塑性循环应变层,由此导致该层的显微组织发生有利的变化并使表层引入残余压应力场,表层的显微..

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